緊湊型、模塊化和智能化
CCU-010 HV為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡(jiǎn)便。采用獨(dú)特的插入式設(shè)計(jì)，通過簡(jiǎn)單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍?cè)O(shè)備。在鍍膜之前和/或之后，可以進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標(biāo)配膜厚監(jiān)測(cè)裝置。特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)
✬高性能離子濺射、蒸發(fā)鍍碳和可選的等離子處理
✬專有的自動(dòng)碳源卷送設(shè)計(jì)–多達(dá)數(shù)十次碳鍍膜，無需用戶干預(yù)
✬獨(dú)特的即插即用濺射和蒸碳鍍膜模塊
✬一流的真空性能和快速抽真空
✬結(jié)構(gòu)緊湊、可靠且易于維修
✬雙位置膜厚監(jiān)控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
✬主動(dòng)冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長(zhǎng)連續(xù)運(yùn)行時(shí)間
巧妙的真空設(shè)計(jì)
CCU-010 HV系列高真空鍍膜儀涵蓋了高級(jí)的SEM、TEM和薄膜應(yīng)用。特別選擇和設(shè)計(jì)的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時(shí)間。兩個(gè)附加的標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭允許連接第三方設(shè)備。
LC-006金屬大腔室
可選的LC-006是當(dāng)前玻璃腔室的擴(kuò)大版，為鋁制結(jié)構(gòu)。這個(gè)金屬腔室可容納6"晶圓樣品或其它大尺寸樣品，而且消除了對(duì)內(nèi)爆防護(hù)的需求。在CCU-010 HV上選配LC-006, 無需任何修改就可實(shí)現(xiàn)更大樣品和晶圓的鍍膜。
SP-010 & SP-011濺射模塊
兩種濺射模塊一旦插入CCU-010 HV鍍膜主體單元，均可立即使用。
SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動(dòng)冷卻功能，連續(xù)噴涂時(shí)間長(zhǎng)，非常適合需要較厚膜的應(yīng)用。 可選多種濺射靶材，適合SEM、FIB和各種薄膜應(yīng)用。
SP-010濺射裝置的磁控組件旨在優(yōu)化靶材使用。這使其成為電子顯微鏡中精細(xì)顆粒貴金屬鍍膜的理想工具，也適合于極細(xì)顆粒尺寸鍍膜。
SP-011濺射裝置的磁控組件用于大功率濺射和寬范圍材料的鍍膜。對(duì)那些比常規(guī)EM應(yīng)用要求鍍膜速率更高、膜層要求更厚的薄膜應(yīng)用時(shí)，使用該濺射頭。SP-011濺射頭與CCU-010 HV主體單元相結(jié)合，可滿足諸如DLC，ITO或鐵磁濺射材料鍍膜等具有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用。（二選一作為標(biāo)配）
CT-010碳蒸發(fā)模塊
緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹立了新標(biāo)桿。將該頭插入CCU-010 HV鍍膜主體單元后，即可立即使用，適合SEM、TEM和任何需要高質(zhì)量碳膜應(yīng)用的場(chǎng)合。CT-010使用歐洲專有的、獨(dú)特且技術(shù)領(lǐng)先的碳繩卷軸系統(tǒng)，可以進(jìn)行多達(dá)數(shù)十次涂層的鍍膜，而無需更換碳源。一段碳繩蒸發(fā)后，新的一段會(huì)自動(dòng)前進(jìn)，用過的碳繩會(huì)掉落到方便的收集盤中。除了易于使用外，自動(dòng)卷軸系統(tǒng)還允許在一個(gè)鍍膜循環(huán)內(nèi)可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。易于選擇的鍍膜模式可保障鍍膜安全，從對(duì)溫度敏感的樣品進(jìn)行溫和的蒸鍍薄膜到在FIB應(yīng)用中厚膜層的高功率閃蒸鍍碳。整合脈沖蒸發(fā)、自動(dòng)啟動(dòng)擋板后除氣及膜厚監(jiān)控的智能電源控制提供了精確的膜層厚度，并可避免火花引起的表面不均勻。
GD-010輝光放電模塊
HS-010真空儲(chǔ)存箱
ET-010等離子刻蝕單元
Coating-LAB軟件
RC-010手套箱應(yīng)用的遠(yuǎn)程控制軟件（可選）
可選多種樣品臺(tái)
