特點和優(yōu)點
✬高性能離子濺射、蒸發(fā)鍍碳和等離子處理
✬專有的自動碳源卷送設(shè)計–多達(dá)數(shù)十次碳鍍膜，無需用戶干預(yù)

✬獨特的即插即用濺射和蒸碳鍍膜模塊
✬一流的真空性能和快速抽真空
✬結(jié)構(gòu)緊湊、可靠且易于維修
✬雙位置膜厚監(jiān)控裝置，可兼容不同尺寸的樣品
✬主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長連續(xù)運行時間

巧妙的真空設(shè)計
CCU-010 LV精細(xì)真空鍍膜系統(tǒng)專為SEM和EDX的常規(guī)高質(zhì)量濺射鍍膜和鍍碳而設(shè)計。模塊化的設(shè)計可將低真空單元后續(xù)很輕松地升級為高真空單元。特別選擇和設(shè)計的材料、表面和形狀可大大縮短抽真空時間。兩個附加的標(biāo)準(zhǔn)真空法蘭允許連接第三方設(shè)備。

SP-010 & SP-011濺射模塊
兩種濺射模塊一旦插入CCU-010 LV鍍膜主體單元，即可使用。
SP-010和SP-011濺射模塊具有有效的主動冷卻功能，連續(xù)噴涂時間長，非常適合需要較厚膜的應(yīng)用。 可選多種濺射靶材，適合SEM等導(dǎo)電薄膜應(yīng)用。
SP-010濺射裝置的磁控組件旨在優(yōu)化靶材使用。這使其成為電子顯微鏡中精細(xì)顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。對于極細(xì)顆粒尺寸鍍膜，使用渦輪泵抽真空的CCU-010 HV版本。
SP-011濺射裝置的磁控組件用于大功率濺射和寬范圍材料的鍍膜。對那些比常規(guī)EM應(yīng)用要求鍍膜速率更高、膜層要求更厚的薄膜應(yīng)用時，使用該濺射頭。

CT-010碳蒸發(fā)模塊
緊湊的插入式碳蒸發(fā)模塊為鍍碳樹立了新標(biāo)桿。將該頭插入CCU-010 LV鍍膜主體后，即可立即使用，適合SEM等需要高質(zhì)量碳膜應(yīng)用的場合。CT-010使用歐洲專有的、獨特且技術(shù)領(lǐng)先的碳繩卷軸系統(tǒng)，可以進(jìn)行多達(dá)數(shù)十次涂層的鍍膜，而無需更換碳源。一段碳繩蒸發(fā)后，新的一段會自動前進(jìn)，用過的碳繩會掉落到方便的收集盤中。除了易于使用外，自動卷軸系統(tǒng)還允許在一個鍍膜循環(huán)內(nèi)可控地沉積幾乎任何厚度的碳膜。易于選擇的鍍膜模式可保障鍍膜安全，從對溫度敏感的樣品進(jìn)行溫和的蒸鍍薄膜到中厚膜層的高功率閃蒸鍍碳。整合脈沖蒸發(fā)、自動啟動擋板后除氣及膜厚監(jiān)控的智能電源控制提供了精確的膜層厚度，并可避免火花引起的表面不均勻。

GD-010輝光放電模塊
可選的GD-010輝光放電系統(tǒng)可快速安裝，通過空氣、氬氣或其它專用氣體進(jìn)行表面處理，例如，使碳膜親水。本機(jī)可按順序進(jìn)行碳鍍膜和輝光放電處理，無需破真空或更換處理頭，極大地簡化了操作過程。本單元安裝到CT-010，與所有樣品臺兼容。

HS-010真空儲存箱
HS-010真空儲存箱可在真空條件下存放備用鍍膜頭、備用行星臺或旋轉(zhuǎn)臺、所有濺射靶材和碳附件，使它們處于清潔狀態(tài)。通過集成的真空管路與鍍膜主體單元連接，利用CCU-010抽真空系統(tǒng)對儲物箱抽真空。可選地，用戶也可用外接真空泵替代。舒適的手動鎖定裝置和放氣閥允許對儲物箱進(jìn)行獨立的抽真空和放氣控制。額外的標(biāo)準(zhǔn)真空腔室可有效地避免蒸碳和濺射金屬之間的交叉污染。

ET-010等離子刻蝕單元

Coating-LAB軟件

RC-010手套箱應(yīng)用的遠(yuǎn)程控制軟件

可選多種樣品臺

CCU-010 LV普通真空鍍膜儀版本
作為真空鍍膜系統(tǒng)的基礎(chǔ)單元，CCU-010 LV 專為 SEM 和 EDX 的常規(guī)高質(zhì)量濺射和/或碳鍍膜而設(shè)計。客戶可選擇：CCU-010 LV磁控離子濺射鍍膜儀；CCU-010 LV熱蒸發(fā)鍍碳儀；CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀；CCU-010 LV手套箱專用鍍膜儀