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| 本發(fā)明目的在于提供一種曝光裝置，特別是提供一種ＣＴＰ裝置，其即使因離散配置的一部分激光二極管的損壞等原因而發(fā)生不發(fā)光的狀態(tài)，也能夠繼續(xù)使用該ＣＴＰ裝置。在一部分通道處于不發(fā)光狀態(tài)的情況下，通過如下方式形成被曝光區(qū)域：生成各通道曝光數(shù)據(jù)，以便還在設(shè)置在基準(zhǔn)區(qū)間前后的插補區(qū)間中移動曝光頭，同時使用處于發(fā)光狀態(tài)的特定的通道進(jìn)行曝光，上述基準(zhǔn)區(qū)間是在正常時移動曝光頭的區(qū)間，上述特定的通道是根據(jù)不發(fā)光狀態(tài)的存在位置而確定的；通過移動單元在基準(zhǔn)區(qū)間及插補區(qū)間內(nèi)移動曝光頭的同時，曝光控制單元根據(jù)各通道曝光數(shù)據(jù)從上述特定的通道射出曝光用光。 |
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曝光裝置
一種曝光裝置，用于對被曝光體進(jìn)行曝光，其特征在于，具有： 保持體，用于保持被曝光體； 多個光源，能夠同時射出曝光用光； 曝光頭，在配置方向上以等間隔離散配置有上述多個光源，上述配置方向是沿著上述被曝光體的方向； 移動單元，使上述曝光頭沿著上述被曝光體移動； 曝光數(shù)據(jù)輸入單元，取得記錄有對被曝光體的曝光內(nèi)容的全部曝光數(shù)據(jù)； 各通道曝光數(shù)據(jù)生成單元，根據(jù)上述全部曝光數(shù)據(jù)，生成各通道曝光數(shù)據(jù)，上述各通道曝光數(shù)據(jù)記錄有上述多個光源各自的曝光內(nèi)容； 曝光控制單元，控制上述多個光源，以使上述多個光源按照上述各通道曝光數(shù)據(jù)的記錄內(nèi)容射出曝光用光；其中， 在上述多個光源全部處于發(fā)光狀態(tài)的情況下，通過如下方式形成上述被曝光區(qū)域：生成上述各通道曝光數(shù)據(jù)，以便使用所有上述多個光源所射出的上述曝光用光來形成被曝光區(qū)域；通過上述移動單元，只在距離與上述多個光源的間隔大致一致的基準(zhǔn)區(qū)間內(nèi)移動上述曝光頭，同時上述曝光控制單元根據(jù)上述各通道曝光數(shù)據(jù)，使上述多個光源射出曝光用光， 在上述多個光源的一部分處于不發(fā)光狀態(tài)的情況下，通過如下方式形成上述被曝光區(qū)域：生成上述各通道曝光數(shù)據(jù)，以便以除了上述基準(zhǔn)區(qū)間內(nèi)以外，還在插補區(qū)間內(nèi)移動曝光頭，同時使用從上述多個單元中確定的處于發(fā)光狀態(tài)的特定光源所射出的上述曝光用光的方式形成上述被曝光區(qū)域，其中，上述插補區(qū)間位于上述基準(zhǔn)區(qū)間前后側(cè)中的至少一側(cè)，并與上述基準(zhǔn)區(qū)間連續(xù)設(shè)置，且具有上述基準(zhǔn)區(qū)間的自然數(shù)倍數(shù)的距離，上述特定光源是根據(jù)處于上述不發(fā)光狀態(tài)的光源的存在位置來確定的；通過上述移動單元，在上述基準(zhǔn)區(qū)間及上述插補區(qū)間內(nèi)移動上述曝光頭，同時上述曝光控制單元根據(jù)上述各通道曝光數(shù)據(jù)，使上述特定光源射出曝光用光。
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| 專利號: |
200810091206 |
| 申請日: |
2008年4月21日 |
| 公開/公告日: |
2008年10月22日 |
| 授權(quán)公告日: |
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| 申請人/專利權(quán)人: |
大日本網(wǎng)目版制造株式會社 |
| 國家/省市: |
日本(JP) |
| 郵編: |
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| 發(fā)明/設(shè)計人: |
安田悟、藤本守、巖佐博司 |
| 代理人: |
馬少東 徐恕 |
| 專利代理機構(gòu): |
隆天國際專利商標(biāo)代理有限公司(72003) |
| 專利代理機構(gòu)地址: |
香港干諾道中168-200號信德中心西翼15樓1512室() |
| 專利類型: |
發(fā)明 |
| 公開號: |
101289024 |
| 公告日: |
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| 授權(quán)日: |
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| 公告號: |
000000000 |
| 優(yōu)先權(quán): |
日本2007年4月20日2007-111683 |
| 審批歷史: |
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| 附圖數(shù): |
12 |
| 頁數(shù): |
20 |
| 權(quán)利要求項數(shù): |
2 |
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