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專利號:200810112290
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一種多鐵性材料的強磁場制備方法

本發(fā)明公開了多鐵性BiFeO↓[3]在強磁場環(huán)境下制備與處理方法。其特征是利用強磁場來制備和處理BiFeO↓[3]樣品,以改善BiFeO↓[3]的磁電耦合性能。利用化學方法或物理方法制備好Bi-Fe-O前驅(qū)體以及薄膜或者直接制備得到BiFeO↓[3]樣品(包括多晶、單晶、納米材料或薄膜),然后置于具有空氣或其它氣體(如氧氣)氛圍的強磁場加熱爐中燒結(jié)或退火,在磁場強度0-20特斯拉、溫度400~880℃下保溫1~6小時后,采用快速淬火或以1℃/分鐘降溫至室溫。本發(fā)明可有效同時提高BiFeO↓[3]的宏觀磁矩和飽和極化強度,增強磁電耦合效應。

一種多鐵性材料的強磁場制備方法

一種多鐵性材料的強磁場制備方法,其特征在于該方法工藝步驟如下:    (1)利用普通化學方法或者物理方法制備好Bi-Fe-O前驅(qū)體或BiFeO3薄膜;    (2)將上述步驟(1)所得的Bi-Fe-O前驅(qū)體利用小型壓片機壓制成小片,得到Bi-Fe-O塊狀樣品;然后將Bi-Fe-O塊狀樣品或BiFeO↓[3]薄膜樣品置于具有氣體氛圍的強磁場加熱爐中,先合上強磁場電源,待磁場穩(wěn)定后打開加熱爐電源,在磁場強度0-20特斯拉、溫度400~550℃下保溫1~6小時后,然后以1℃/分鐘降溫,降溫至100~300℃,關(guān)閉熱處理爐電源,最后關(guān)閉磁場電源,使Bi-Fe-O塊狀樣品或BiFeO↓[3]薄膜樣品隨熱處理爐自然降溫冷卻至室溫,得到多晶BiFeO↓[3]或BiFeO↓[3]薄膜。
 


  
專利號: 200810112290
申請日: 2008年5月22日
公開/公告日: 2008年10月8日
授權(quán)公告日:
申請人/專利權(quán)人: 中國科學院電工研究所
國家/省市: 北京(11)
郵編: 100080
發(fā)明/設計人: 羅萬居、王軍紅、王棟樑、劉敏、馬衍偉
代理人: 關(guān)玲 成金玉
專利代理機構(gòu): (11251)
專利代理機構(gòu)地址: ()
專利類型: 發(fā)明
公開號: 101279841
公告日:
授權(quán)日:
公告號: 000000000
優(yōu)先權(quán):
審批歷史:
附圖數(shù): 0
頁數(shù): 5
權(quán)利要求項數(shù): 1
 請進入中國專利檢索數(shù)據(jù)庫核實 

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