混懸液中的微粒大小是不均勻的，大的微粒總是迅速沉降，細(xì)小微粒沉降速度很慢，細(xì)小微粒由于布朗運(yùn)動，可長時間懸浮在介質(zhì)中，使混懸液長時間地保持混懸狀態(tài)。制備混懸液時，應(yīng)使混懸微粒有適當(dāng)?shù)姆稚⒍龋�粒度均勻，以減小微粒的沉降速度，使混懸液處于穩(wěn)定狀態(tài)。傳統(tǒng)的混懸液生產(chǎn)都是采用普通膠體磨，轉(zhuǎn)速只有3000rpm，生產(chǎn)出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產(chǎn)生絮凝，影響藥效和使用，為此有醫(yī)藥廠家在考察了國內(nèi)的設(shè)備之后，放棄了具有度價格優(yōu)勢的國內(nèi)設(shè)備，來詢問低能耗、高轉(zhuǎn)速、精密定轉(zhuǎn)子、研磨細(xì)的上海IKN高速高剪切均質(zhì)機(jī)。該設(shè)備轉(zhuǎn)速達(dá)到14000RPM，這可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速來實(shí)現(xiàn)。(轉(zhuǎn)速是普通均質(zhì)研磨設(shè)備3-4倍，研磨的力度也是普通均質(zhì)機(jī)的3-4倍，這樣研磨的細(xì)度更小，效果更好)混懸液膠體磨CMSD2000三錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。目國內(nèi)常用的剪切式均質(zhì)機(jī)線速度多為10～25 m/ s。實(shí)踐證明其均質(zhì)效果并不理想。IKN高剪切均質(zhì)機(jī)指線速度達(dá)到40～66 m/ s的剪切式均質(zhì)機(jī),其主要工作部件為多相互嚙合的定轉(zhuǎn)子,每定轉(zhuǎn)子又有數(shù)層齒圈.

上海IKN技術(shù)，獨(dú)特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來ER2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩模塊，加入了一分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

目市面上幾種研磨粉碎設(shè)備主要有：

砂磨機(jī)：鋯珠易損，引入雜質(zhì)，更換維修成本高；

國內(nèi)膠體磨/研磨機(jī)/分散機(jī)：轉(zhuǎn)速普遍2930rpm，不超過3000rpm，作用力弱，粉碎研磨細(xì)度不夠，漿料穩(wěn)定性差；

德國IKN研磨均質(zhì)機(jī)（改進(jìn)型膠體磨/改進(jìn)型均質(zhì)機(jī)）：轉(zhuǎn)速范圍9000rpm-14000rpm-21000rpm，剪切力，研磨力，分散力更強(qiáng)，粒徑更小，分布范圍更窄，漿料穩(wěn)定性更好。產(chǎn)生均勻的尺寸減小率并產(chǎn)生窄的，一致的和可重復(fù)的粒度分布。

上海依肯機(jī)械 楊工 1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出ERS2000超高速剪切均質(zhì)乳化機(jī)。其剪切速率可以超過10000 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以da到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米。剪切力更強(qiáng)，乳液的粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度高,無需其他輔助分散設(shè)備。
 

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產(chǎn)品的要求

混懸液制備高剪切均質(zhì)機(jī)，醫(yī)藥級高剪切均質(zhì)機(jī)，符合GMP高剪切均質(zhì)機(jī)，高剪切納米醫(yī)藥均質(zhì)機(jī)，工業(yè)化14000prm高速均質(zhì)機(jī)，混懸液納米高速均質(zhì)機(jī)，德國納米均質(zhì)機(jī)